该设备由研磨盘及其电动驱动系统、样品夹头及其电动驱动系统、研磨进给系统及控制系统组成。样品夹头可自转，其与磨盘的中心的径向距离可根据样品的实际(如材料、尺寸等因素)调节。
工作环境要求
技术参数
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专为透射电子显微镜(TEM)研制的样品制备设备。该设备主要适用于金属、陶瓷及半导体等固体材料的TEM样品在离子减薄前对样品预减薄与抛光。同时，也适用于金相样品的磨制及抛光。 该设备由研磨盘及其电动驱动系统、样品夹头及其电动驱动系统、研磨进给系统及控制系统组成。样品夹头可自转，其与磨盘的中心的径向距离可根据样品的实际(如材料、尺寸等因素)调节。 |
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该设备可磨制样品厚度为： 25～100um 工作环境要求 技术参数 |
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